光刻材料

光刻胶

SU-8 2000系列 高对比度环氧树脂基负性光刻胶

? 高纵横比成像
? 0.5至>200um 单一涂层膜厚
? 改进涂料性能
? 快速干燥增加生产力
? 近紫外(350~400nm)加工
? 垂直侧壁

SU-8 3000系列 高对比度环氧树脂基负性光刻胶

? 提高粘附力
? 低涂层应力
? 高深宽比
? 垂直侧壁

联系方式

地址:北京市昌平区高新五街五号院北大创新谷国信园
联系人:高经理
联系邮箱:gaoyongjia@weinadongli.com

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